外媒：三星代生產(chǎn)計劃曝光 6nm/5nm/4nm制程工藝均在其中
據(jù)Anandtech報道，去年10月，三星Foundry正式開始運用其7nm LPP制程工藝生產(chǎn)芯片，此后并未放緩其制造技術(shù)的發(fā)展。該公司有望在2019年下半年采用其精制的6nm LPP（6納米低功率加）技術(shù)開始批量生產(chǎn)。此外，該公司表示將推出其首款5nm LPE（5納米低功率）SoC并且將在未來幾個月內(nèi)完成其4nm LPE（4納米低功率）工藝的研究。在未來幾年內(nèi)，三星Foundry將通過優(yōu)化或插入高級模塊繼續(xù)運用其14 nm，10 nm和7 nm節(jié)點，以滿足特定使用的需要。正如所料，極紫外光刻（EUVL）將成為三星領(lǐng)先的下一代制造工藝的關(guān)鍵推動原因。運用EUV的第一項技術(shù)是7nm LPP，其后續(xù)產(chǎn)品將更廣泛地運用它。今年晚些時候，三星將采用其6nm LPP工藝技術(shù)開始生產(chǎn)芯片。三星的6LPP nm是三星7nm LPP的精制版，提供更高（~10％）的晶體管密度，更低的功耗，但可以重復運用最初為7nm LPP規(guī)劃的IP。三星7nm LPP生產(chǎn)技術(shù)發(fā)展的下一步將是其5nm LPE制造工藝。與6nm LPP相比，在功率，性能和面積方面提供了更多的好處，但也可以重用最初為初始過程規(guī)劃的IP。三星估計將在今年下半年推出運用其5nm LPE技術(shù)的首批芯片，估計將在2020年上半年大規(guī)模生產(chǎn)。三星Foundry估計，在客戶流失方面，5nm LPE將成為其2020年的主要EUVL節(jié)點，可能是因為該技術(shù)將能夠為各種使用提供眾多優(yōu)勢，而三星的EUV產(chǎn)量將會更高。6nm LPP和5nm LPE技術(shù)將比7nm LPP工藝更廣泛運用的另一個原因是因為三星鑄造廠將在未來幾個月內(nèi)建立其在Hwaseong的EUV生產(chǎn)線后擁有更多的EUV產(chǎn)能，Hwaseong是從一開始就為EUV設備而規(guī)劃的。該工廠耗資46.15億美元，不久將完工，估計將于2020年開始大批量生產(chǎn)。
Q:這個文檔屬于什么類型？
A:資訊。
Q:文檔中提到的制程工藝是什么？
A:7nmLPP 制程工藝。
Q:三星 Foundry 什么時候開始運用該制程工藝生產(chǎn)芯片？
A:去年 10 月。
Q:文檔中提到的預計大批量生產(chǎn)時間是什么時候？
A:2020 年。
Q:三星 Foundry 運用該制程工藝生產(chǎn)的是什么？
A:芯片。
Q:7nmLPP 制程工藝有什么特點？
A:文檔中未提及。
Q:這種制程工藝相比其他工藝有哪些優(yōu)勢？
A:文檔中未提及。
Q:哪些公司可能會采用三星的 7nmLPP 制程工藝生產(chǎn)的芯片？
A:文檔中未提及。
Q:三星的 7nmLPP 制程工藝對芯片性能有多大提升？
A:文檔中未提及。
Q:三星 Foundry 生產(chǎn)的芯片主要應用在哪些領(lǐng)域？
A:文檔中未提及。